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极紫外掩模的同步辐射在波长高分辨成像仿真研究
同步辐射技术及应用 | 更新时间：2025-04-03
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    • 极紫外掩模的同步辐射在波长高分辨成像仿真研究

    • Emulation of synchrotron radiation high-resolution actinic review for EUV mask

    • “在极紫外光刻领域，研究人员提出椭圆形波带片技术，实现12纳米极限分辨率，为EUV掩模缺陷分析提供新方案。”
    • 核技术   2025年48卷第3期 文章编号：030102

    • DOI：10.11889/j.0253-3219.2025.hjs.48.240151    

      中图分类号： TL99

    • 收稿日期：2024-04-15，

      纸质出版日期：2025-03-15

    移动端阅览

  • 苏子净,刘海岗,孟祥雨等.极紫外掩模的同步辐射在波长高分辨成像仿真研究[J].核技术,2025,48(03):030102-030102. DOI： 10.11889/j.0253-3219.2025.hjs.48.240151. CSTR： 32193.14.hjs.CN31-1342/TL.2025.48.240151.

    SU Zijing,LIU Haigang,MENG Xiangyu,et al.Emulation of synchrotron radiation high-resolution actinic review for EUV mask[J].NUCLEAR TECHNIQUES,2025,48(03):030102-030102. DOI： 10.11889/j.0253-3219.2025.hjs.48.240151. CSTR： 32193.14.hjs.CN31-1342/TL.2025.48.240151.

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