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靶表面粗糙度对低能电子致厚Ni靶特征X射线产额的影响研究
加速器技术、射线技术及应用 | 更新时间：2024-10-25
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    • 靶表面粗糙度对低能电子致厚Ni靶特征X射线产额的影响研究

    • Effects of surface roughness on measurements of characteristic X-ray yields of thick Ni target by low-energy electron impact

    • “在低能电子入射厚Ni靶实验中，靶表面粗糙度会影响特征X射线产额。实验结果与DWBA理论计算值吻合良好，为电子致厚靶原子内壳层电离截面研究提供重要参考。”
    • 核技术   2021年44卷第11期 文章编号：110201

    • DOI：10.11889/j.0253-3219.2021.hjs.44.110201    

      中图分类号： TL814

    • 收稿日期：2021-07-13，

      修回日期：2021-10-12，

      纸质出版日期：2021-11-15

    移动端阅览

  • 田丽霞,尹毅,戴朝成.靶表面粗糙度对低能电子致厚Ni靶特征X射线产额的影响研究[J].核技术,2021,44(11):20-24. DOI： 10.11889/j.0253-3219.2021.hjs.44.110201.

    TIAN Lixia,YIN Yi,DAI Chaocheng.Effects of surface roughness on measurements of characteristic X-ray yields of thick Ni target by low-energy electron impact[J].NUCLEAR TECHNIQUES,2021,44(11):20-24. DOI： 10.11889/j.0253-3219.2021.hjs.44.110201.

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