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同步辐射GIXRD研究溶液浓度对P3HT薄膜的取向及载流子迁移率的影响
同步辐射技术及应用 | 更新时间:2021-03-05
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    • 同步辐射GIXRD研究溶液浓度对P3HT薄膜的取向及载流子迁移率的影响

    • Influence of solution concentration on orientation and related carrier mobility of P3HT thin film by synchrotron GIXRD

    • 核技术   2013年36卷第11期 文章编号:110101
    • DOI:10.11889/j.0253-3219.2013.hjs.36.110101    

      中图分类号: TM914.4
    • 纸质出版日期:2013-11-01

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  • [1]李海东,王鹏月,张吉东.同步辐射GIXRD研究溶液浓度对P3HT薄膜的取向及载流子迁移率的影响[J].核技术,2013,36(11):3-6. DOI: 10.11889/j.0253-3219.2013.hjs.36.110101.

    LI Haidong, WANG Pengyue, ZHANG Jidong. Influence of solution concentration on orientation and related carrier mobility of P3HT thin film by synchrotron GIXRD[J]. Nuclear techniques, 2013, 36(11): 110101 DOI: 10.11889/j.0253-3219.2013.hjs.36.110101.

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