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高速CMOS电路电离辐照损伤的剂量率效应
更新时间:2022-08-16
    • 高速CMOS电路电离辐照损伤的剂量率效应

    • Effect of dose rate on radiation damage and annealing of high speed CMOS circuit

    • 核技术   1998年第8期
    • 中图分类号: TN432
    • 纸质出版日期:1998-08-01

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  • [1]郭旗,陆妩,余学锋,任迪远,严荣良.高速CMOS电路电离辐照损伤的剂量率效应[J].核技术,1998(08):503-506. DOI:

    Effect of dose rate on radiation damage and annealing of high speed CMOS circuit[J]. Nuclear techniques, 1998, (8). DOI:

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相关作者

余学峰
艾尔肯
任迪远
郭旗
张国强
陆妩
石见见
赵文增

相关机构

中国科学院新疆物理研究所
中国科学院新疆物理研究所
武汉大学 物理与科学技术学院 核固体物理湖北省重点实验室
华北电力大学 核科学与工程学院
中国科学院近代物理研究所
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