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低温条件下金属薄膜外延生长过程中瞬时扩散机制的研究
更新时间:2021-04-09
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    • 低温条件下金属薄膜外延生长过程中瞬时扩散机制的研究

    • A study of transient diffusion mechanism in low-temperature epitaxy process of thin metal films

    • 核技术   1998年第10期
    • 中图分类号: O484
    • 纸质出版日期:1998-10-01

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  • [1]岳岩,霍裕昆,潘正瑛.低温条件下金属薄膜外延生长过程中瞬时扩散机制的研究[J].核技术,1998(10):577-581. DOI:

    YUE Yan HUO Yukun PAN Zhengying. A study of transient diffusion mechanism in low-temperature epitaxy process of thin metal films[J]. Nuclear techniques, 1998, (10): 577-581. DOI:

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