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注入30keVN+在模拟细胞中的溅射级联推进
更新时间:2021-04-09
    • 注入30keVN+在模拟细胞中的溅射级联推进

    • Research on sputtering-, projectile- and cascade-carrying forward in cell model by implanted 30keV N ̄+ ions

    • 核技术   1996年第3期
    • 中图分类号: TL629.1
    • 纸质出版日期:1996-03-01

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  • [1]韩光武,马受武,卫增泉.注入30keVN~+在模拟细胞中的溅射级联推进[J].核技术,1996(03):152-154. DOI:

    Research on sputtering-, projectile- and cascade-carrying forward in cell model by implanted 30keV N ̄+ ions[J]. Nuclear techniques, 1996, (3). DOI:

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