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离子束辅助沉积MoSx膜的特性研究
更新时间：2021-04-09

    • 离子束辅助沉积MoSx膜的特性研究

    • Characteristics of Mosx films deposited by ion beam assistance

    • 核技术   1995年第10期
    • 中图分类号： O658.12

    • 纸质出版日期：1995-10-01

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  • [1]王培禄,刘仲阳,姜景云,杨兴富.离子束辅助沉积MoS_x膜的特性研究[J].核技术,1995(10):604-609. DOI：

    Characteristics of Mosx films deposited by ion beam assistance[J]. Nuclear techniques, 1995, (10). DOI：

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