您当前的位置:
首页 >
文章列表页 >
用离子束沟道技术研究GexS1-x/Si应变超晶格
更新时间:2021-04-09
    • 用离子束沟道技术研究GexS1-x/Si应变超晶格

    • A study of GexSi1-x/Si SLS by ion channeling technique

    • 核技术   1993年第8期
    • 纸质出版日期:1993-08-01

    移动端阅览

  • [1]黄孟兵,赵国庆.用离子束沟道技术研究Ge_xS_(1-x)/Si应变超晶格[J].核技术,1993(08):460-464. DOI:

    Huang Mengbing Zhao Guoqing. A study of GexSi1-x/Si SLS by ion channeling technique[J]. Nuclear techniques, 1993, (8): 460-464. DOI:

  •  
  •  

0

浏览量

39

下载量

0

CSCD

文章被引用时,请邮件提醒。
提交
工具集
下载
参考文献导出
分享
收藏
添加至我的专辑

相关文章

暂无数据

相关作者

暂无数据

相关机构

暂无数据
0