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抗辐射加固与非加固工艺制备Si/SiO2电离辐照的XPS深度剖析
更新时间:2021-04-09
    • 抗辐射加固与非加固工艺制备Si/SiO2电离辐照的XPS深度剖析

    • Depth - dissection of reinforced and unreinforced irradiated Si/SiO2 by XPS

    • 核技术   1992年第9期
    • 纸质出版日期:1992-09-01

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  • [1]刘昶时,赵元富,刘芬,陈萦,王忠燕,赵汝权.抗辐射加固与非加固工艺制备Si/SiO_2电离辐照的XPS深度剖析[J].核技术,1992(09):554-558. DOI:

    Liu Changshi. Depth - dissection of reinforced and unreinforced irradiated Si/SiO2 by XPS[J]. Nuclear techniques, 1992, (9): 554-558. DOI:

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