离子注入过程中表面的碳沉积

阎鹏勋; 陈发贵

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离子注入过程中表面的碳沉积

更新时间：2021-04-09

- 离子注入过程中表面的碳沉积
- Surface carbon layer of ion implantation process
- 核技术 1992年第12期
- 作者机构：
  
  1. 兰州大学
  2. 兰州大学,兰州,700001
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版日期：1992-12-01
- 稿件说明：
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[1]阎鹏勋,陈发贵.离子注入过程中表面的碳沉积[J].核技术,1992(12):705-709.

Yan Pengxun Chen Fagui. Surface carbon layer of ion implantation process[J]. Nuclear techniques, 1992, (12): 705-709.
[1]阎鹏勋,陈发贵.离子注入过程中表面的碳沉积[J].核技术,1992(12):705-709. DOI：

Yan Pengxun Chen Fagui. Surface carbon layer of ion implantation process[J]. Nuclear techniques, 1992, (12): 705-709. DOI：

摘要

通过对离子注入过程中表面碳膜结构及其对离子注入层各种性能（颜色、显微硬度和耐蚀性）影响的研究

得知了形成离子注入层表面碳膜及其影响离子注入层性能的机理。

Abstract

The structure of carbon layer deposited on metal surface in ion implantation process and its effects on the properties of implantation layers were investigated . The mechanisms about both the formation of the carbon contamination and the above effects were discussed.

关键词

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