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IBAD和磁控溅射对银膜性能的影响
更新时间:2021-03-05
    • IBAD和磁控溅射对银膜性能的影响

    • Microstructure and properties of silver films obtained using ion beam composite deposition

    • 核技术   2010年33卷第12期
    • 中图分类号: TB43
    • 纸质出版日期:2010-12-01

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  • [1]金杰,邱维维,王锦辉,郭会斌.IBAD和磁控溅射对银膜性能的影响[J].核技术,2010,33(12):918-922. DOI:

    JIN Jie QIU Weiwei WANG Jinhui GUO Huibin. Microstructure and properties of silver films obtained using ion beam composite deposition[J]. Nuclear techniques, 2010, 33(12): 918-922. DOI:

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相关作者

王占山
黄秋实
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齐润泽
陈加琪
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郭古青
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相关机构

同济大学 物理科学与工程学院 先进微结构材料教育部重点实验室
南京航空航天大学 材料科学与技术学院
College of Material Science and Technology, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics
装甲兵工程学院装备再制造技术国防科技重点实验室
四川大学原子核科学技术研究所,辐射物理及技术教育部重点实验室
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