离子注入制备Si<sub>x</sub>Mn<sub>1-x</sub>稀磁半导体的X射线衍射

彭国良; 李铁成; 张文勇; 彭挺; 艾志伟; 郭立平; 何庆; 文闻

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离子注入制备Si_xMn_1-x稀磁半导体的X射线衍射

低能加速器技术、射线技术及应用 | 更新时间：2021-03-05

- 离子注入制备Si_xMn_1-x稀磁半导体的X射线衍射
- XRD study on Si_xMn_1-x diluted magnetic semiconductors prepared by ion implantation
- 核技术 2010年33卷第6期
- 作者机构：
  
  1. 武汉大学物理科学与技术学院加速器实验室
  2. 中国科学院上海应用物理研究所
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  (No.ZX069)
- DOI：
  中图分类号： O472.5
- 纸质出版日期：2010-06-01
- 稿件说明：
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[1]彭国良,李铁成,张文勇,彭挺,艾志伟,郭立平,何庆,文闻.离子注入制备Si_xMn_(1-x)稀磁半导体的X射线衍射[J].核技术,2010,33(06):457-460.

PENG Guoliang1 LI Tiecheng1 ZHANG Wenyong1 PENG Ting1 AI Zhiwei1 GUO Liping1 HE Qing2 WEN Wen2 1. XRD study on Si_xMn_1-x diluted magnetic semiconductors prepared by ion implantation[J]. Nuclear techniques, 2010, 33(6): 457-460.
[1]彭国良,李铁成,张文勇,彭挺,艾志伟,郭立平,何庆,文闻.离子注入制备Si_xMn_(1-x)稀磁半导体的X射线衍射[J].核技术,2010,33(06):457-460. DOI：

PENG Guoliang1 LI Tiecheng1 ZHANG Wenyong1 PENG Ting1 AI Zhiwei1 GUO Liping1 HE Qing2 WEN Wen2 1. XRD study on Si_xMn_1-x diluted magnetic semiconductors prepared by ion implantation[J]. Nuclear techniques, 2010, 33(6): 457-460. DOI：

摘要

把1×1016/cm2的200keVMn离子注入p型Si单晶（100）片中

在N2气氛下进行600℃、700℃、800℃和900℃退火

制得SixMn1-x稀磁半导体。用同步辐射X射线衍射技术研究样品结构

发现Mn的注入和退火导致了Si结晶颗粒的产生

随退火温度升高

间隙位的Mn原子逐渐减少

替代位的Mn原子增加

同时晶格发生膨胀。间隙位和替代位Mn原子间的相互作用导致样品的铁磁性增强。

Abstract

SixMn1-x diluted magnetic semiconductors（DMS） were prepared by implanting 200 keV Mn ions into p-Si（100） wafers and annealing them at 600°C

700°C

800°C or 900°C under N2 atmosphere.The samples were studied by means of synchrotron radiation X-ray diffraction at SSRF（Shanghai Synchrotron Radiation Facility）.It was found that the Mn implantation and thermal annealing resulted in appearance of silicon crystalline particles.At increasing annealing temperatures

the number of Mn atoms on interstitial sites decreased gradually while those on substitution sites increased.And the crystal lattice expanded

too.Interaction of Mn atoms between interstitial and substitution sites increased the ferromagnetism of SixMn1-x DMS samples.

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离子注入制备SixMn1-x稀磁半导体的X射线衍射

XRD study on SixMn1-x diluted magnetic semiconductors prepared by ion implantation

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离子注入制备Si_xMn_1-x稀磁半导体的X射线衍射

XRD study on Si_xMn_1-x diluted magnetic semiconductors prepared by ion implantation