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双层辉光离子渗金属技术制备Al-Cr-Si氧化物阻氚涂层
低能加速器技术、射线技术及应用 | 更新时间:2021-03-05
    • 双层辉光离子渗金属技术制备Al-Cr-Si氧化物阻氚涂层

    • Preparation of Al-Cr-Si oxide tritium permeation barrier by double glow plasma technology

    • 核技术   2010年33卷第10期
    • 中图分类号: TL341
    • 纸质出版日期:2010-10-01

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  • [1]尹磊,陶杰,苏新清,刘红兵,徐江.双层辉光离子渗金属技术制备Al-Cr-Si氧化物阻氚涂层[J].核技术,2010,33(10):765-770. DOI:

    YIN Lei TAO Jie SU Xinqing LIU Hongbing XU Jiang. Preparation of Al-Cr-Si oxide tritium permeation barrier by double glow plasma technology[J]. Nuclear techniques, 2010, 33(10): 765-770. DOI:

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