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高压脉冲辉光放电内表面注入及等离子体特征研究
低能加速器技术、射线技术及应用 | 更新时间:2021-03-12
    • 高压脉冲辉光放电内表面注入及等离子体特征研究

    • Plasma characteristic of high voltage pulsed glow discharge and ion implantation for inner surface modification

    • 核技术   2009年32卷第6期
    • 中图分类号: TG174.44
    • 纸质出版日期:2009-06-01

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  • [1]陆洋,王浪平,王小峰,于永澔,黄磊,谢志文.高压脉冲辉光放电内表面注入及等离子体特征研究[J].核技术,2009,32(06):431-434. DOI:

    LU Yang1 WANG Langping1 WANG Xiaofeng2 YU Yonghao1 HUANG Lei1 XIE Zhiwen1 1. Plasma characteristic of high voltage pulsed glow discharge and ion implantation for inner surface modification[J]. Nuclear techniques, 2009, 32(6): 431-434. DOI:

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