合肥同步辐射装置U26光束线45-115nm波段高次谐波抑制系统设计

贺胜男; 刘颖; 周洪军; 霍同林; 付绍军

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合肥同步辐射装置U26光束线45-115nm波段高次谐波抑制系统设计

新一代同步辐射技术及应用 | 更新时间：2021-03-12

- 合肥同步辐射装置U26光束线45-115nm波段高次谐波抑制系统设计
- The 45-115nm higher-harmonics suppressor for Beamline U26 at NSRL
- 核技术 2009年32卷第6期
- 作者机构：
  
  中国科学技术大学国家同步辐射实验室
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  (No.ZX069)
- DOI：
  中图分类号： O434.1
- 纸质出版日期：2009-06-01
- 稿件说明：
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[1]贺胜男,刘颖,周洪军,霍同林,付绍军.合肥同步辐射装置U26光束线45-115nm波段高次谐波抑制系统设计[J].核技术,2009,32(06):409-412.

HE Shengnan LIU Ying ZHOU Hongjun HUO Tonglin FU Shaojun. The 45-115nm higher-harmonics suppressor for Beamline U26 at NSRL[J]. Nuclear techniques, 2009, 32(6): 409-412.
[1]贺胜男,刘颖,周洪军,霍同林,付绍军.合肥同步辐射装置U26光束线45-115nm波段高次谐波抑制系统设计[J].核技术,2009,32(06):409-412. DOI：

HE Shengnan LIU Ying ZHOU Hongjun HUO Tonglin FU Shaojun. The 45-115nm higher-harmonics suppressor for Beamline U26 at NSRL[J]. Nuclear techniques, 2009, 32(6): 409-412. DOI：

摘要

为抑制合肥同步辐射装置U26光束线掠入射单色仪真空紫外波段的高次谐波

在45–115nm波段研究了Si和Al的反射率特性

结果表明:确定的入射角下

Si和Al的反射率随波长的变化有明显的截止

截止波长随入射角减小不断变大。以Si为反射镜材料

设计了两镜高次谐波抑制系统

核心由四组两两平行的平面反射镜组成

确定了每组反射镜的最佳入射角

并给出了该装置详细的结构设计参数。对该系统的高次谐波抑制效率进行计算表明

45–115nm波段的高次谐波抑制比均大于100。

Abstract

Higher-harmonics suppressor was designed for Beamline U26 at NSRL in order to improve the spectral purity of the monochromatic light over the wavelength region of 45–115nm.An investigation revealed that at certain incidence angle

the reflectivity of Al or Si

varying with the wavelength

has obvious cut-off wavelength that increases with decreasing incidence angle.And silicon was chosen as the mirror material for designing a two-mirror higher-harmonic suppressor.The system consists of four pairs of parallel mirrors

each of which works at a different wavelength range.Optimal incidence angle of each pair of reflector was determined.The calculated results show that suppression ratio of the system is greater than 100 over the 45–115 nm range.

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