钇离子束动态增强沉积氮化钛膜

张涛; 侯君达; 李国卿

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钇离子束动态增强沉积氮化钛膜

更新时间：2021-03-12

- 钇离子束动态增强沉积氮化钛膜
- Y ion beam dynamic enhanced deposition of TiN film
- 核技术 2002年第1期
- 作者机构：
  
  1. 北京师范大学低能核物理研究所
  2. 大连理工大学物理系北京辐射中心北京,100875
  3. ,大连,116023
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国家 8 6 3计划项目（86 3- 715 - 2 3- 0 2 - 0 1）资助()
- DOI：
  中图分类号： TG174.4
- 纸质出版日期：2002-01-01
- 稿件说明：
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[1]张涛,侯君达,李国卿.钇离子束动态增强沉积氮化钛膜[J].核技术,2002(01):25-28.

ZHANG Tao HOU Junda. Y ion beam dynamic enhanced deposition of TiN film[J]. Nuclear techniques, 2002, (1): 25-28.
[1]张涛,侯君达,李国卿.钇离子束动态增强沉积氮化钛膜[J].核技术,2002(01):25-28. DOI：

ZHANG Tao HOU Junda. Y ion beam dynamic enhanced deposition of TiN film[J]. Nuclear techniques, 2002, (1): 25-28. DOI：

摘要

在膜层上接收注入钇离子和沉积钛原子比例Y+ :Ti=1:12的条件下

采用钇离子束动态增强沉积方法

在纯铁等基体上制备氮化钛膜层试样。对试样予以电化学测试和AES、XRD分析。XRD结果未发现钇单质或氮化钇的衍射峰。载能金属离子的动态增强沉积作用产生了界面混合效果

形成较宽的过渡层。动态增强沉积试样比非增强沉积试样有更强的抗电化学腐蚀能力。

Abstract

TiN film was formed on iron substrate by Y ion beam dynamic enhanced deposition. The ratio of Y ions and Ti atoms arriving the film Y +:Ti=1:12. The film was characterized with AES

XRD and anode polarization analyses. A 50nm width of interlayer was formed between the film and the substrate. This process has an advantage over the non-IBED process in improving the corrosion resistance of TiN-iron sample.

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