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MEVVA离子注入技术制备DLC:Ni多层厚膜
低能加速器技术、射线技术及应用 | 更新时间:2021-03-12
    • MEVVA离子注入技术制备DLC:Ni多层厚膜

    • Thick DLC:Ni multilayer films fabricated by MEVVA ion implantation

    • 核技术   2008年第11期
    • 中图分类号: TB43
    • 纸质出版日期:2008-11-01

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  • [1]覃礼钊,吴正龙,张旭,刘安东,廖斌.MEVVA离子注入技术制备DLC:Ni多层厚膜[J].核技术,2008(11):806-810. DOI:

    QIN Lizhao1, 3 WU Zhenglong2 ZHANG Xu1 LIU Andong1 LIAO Bin1 1. Thick DLC:Ni multilayer films fabricated by MEVVA ion implantation[J]. Nuclear techniques, 2008, (11): 806-810. DOI:

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