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基于高级硅刻蚀和硅氧化工艺的软X射线干涉光刻分束光栅的优化设计
新一代同步福射技术及应用 | 更新时间:2021-03-12
    • 基于高级硅刻蚀和硅氧化工艺的软X射线干涉光刻分束光栅的优化设计

    • An optimized design of the XIL beam splitter grating combining advanced silicon etching with silicon oxidation technology

    • 核技术   2008年第6期
    • 中图分类号: O436.1
    • 纸质出版日期:2008-06-01

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  • [1]朱伟忠,吴衍青,史沛熊,郭智,邰仁忠,徐洪杰.基于高级硅刻蚀和硅氧化工艺的软X射线干涉光刻分束光栅的优化设计[J].核技术,2008(06):415-419. DOI:

    ZHU Weizhong1 WU Yanqing1 SHI Peixiong2 GUO Zhi1 TAI Renzhong1 XU Hongjie1 1. An optimized design of the XIL beam splitter grating combining advanced silicon etching with silicon oxidation technology[J]. Nuclear techniques, 2008, (6): 415-419. DOI:

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