磁过滤等离子体沉积和注入技术

张荟星; 李强; 吴先映

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磁过滤等离子体沉积和注入技术

更新时间：2021-03-12

- 磁过滤等离子体沉积和注入技术
- Magnetic filtered plasma deposition and implantation technique
- 核技术 2002年第9期
- 作者机构：
  
  1. 射线束技术与材料改性教育部重点实验室
  2. 射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京师范大学低能核物理研究所北京,100875
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号： TL503
- 纸质出版日期：2002-09-01
- 稿件说明：
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[1]张荟星,李强,吴先映.磁过滤等离子体沉积和注入技术[J].核技术,2002(09):695-698.

ZHANG Huixing LI Qiang WU Xianying. Magnetic filtered plasma deposition and implantation technique[J]. Nuclear techniques, 2002, (9): 695-698.
[1]张荟星,李强,吴先映.磁过滤等离子体沉积和注入技术[J].核技术,2002(09):695-698. DOI：

ZHANG Huixing LI Qiang WU Xianying. Magnetic filtered plasma deposition and implantation technique[J]. Nuclear techniques, 2002, (9): 695-698. DOI：

摘要

利用阴极真空弧放电技术能够产生高密度的金属等离子体。经过 90度的磁过滤器

可以除去金属等离子体中的大颗粒微粒

从而为制备高质量的、致密的各种薄膜提供了一种全新的技术。利用该技术制备薄膜具有非常广泛的应用。本文介绍了阴极真空弧放电技术的应用

以及磁过滤等离子体沉积和注入装置及其应用

Abstract

A high dense metal plasma can be produced by using cathodic vacuum arc discharge technique. The microparticles emitted from the cathode in the metal plasma can be removed when the metal plasma passes through the magnetic filter. It is a new technique for making high quality

fine and close thin films which have very widespread applications. In this paper we describe the applications of cathodic vacuum arc technique

and then a filtered plasma deposition and ion implantation system as well as its applications.

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