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走向光学工业应用的辅助镀膜霍尔等离子体源
更新时间:2021-03-12
    • 走向光学工业应用的辅助镀膜霍尔等离子体源

    • The Hall accelerator for assisted deposition in optical industry application

    • 核技术   2002年第9期
    • 中图分类号: TL503.3
    • 纸质出版日期:2002-09-01

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  • [1]尤大伟,李安杰,江建国,武建军,黄小刚.走向光学工业应用的辅助镀膜霍尔等离子体源[J].核技术,2002(09):679-683. DOI:

    YOU Dawei 1 LI Anjie 1 JIANG Jianguo 2 WU Jianjun 1 HUANG Xiaogang 1 1. The Hall accelerator for assisted deposition in optical industry application[J]. Nuclear techniques, 2002, (9): 679-683. DOI:

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