ICPECVD类金刚石膜沉积过程的发射光谱诊断研究

俞世吉; 张家良; 丁振峰; 马腾才

doi:null

您当前的位置：

首页 >

文章列表页 >

ICPECVD类金刚石膜沉积过程的发射光谱诊断研究

更新时间：2021-03-12

- ICPECVD类金刚石膜沉积过程的发射光谱诊断研究
- Optical emission spectroscopy during diamond-like carbon fllms deposition process by ICPECVD
- 核技术 2006年第2期
- 作者机构：
  
  1. 中国科学院电子学研究所
  2. 大连理工大学物理系,北京,100080
  3. ,大连,116023
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国家自然科学基金资助（50002002,19835030）项目()
- DOI：
  中图分类号： TB43
- 纸质出版日期：2006-02-01
- 稿件说明：
移动端阅览
[1]俞世吉,张家良,丁振峰,马腾才.ICPECVD类金刚石膜沉积过程的发射光谱诊断研究[J].核技术,2006(02):153-156.

YU Shiji ZHANG Jialiang DING Zhenfeng MA Tengcai. Optical emission spectroscopy during diamond-like carbon fllms deposition process by ICPECVD[J]. Nuclear techniques, 2006, (2): 153-156.
[1]俞世吉,张家良,丁振峰,马腾才.ICPECVD类金刚石膜沉积过程的发射光谱诊断研究[J].核技术,2006(02):153-156. DOI：

YU Shiji ZHANG Jialiang DING Zhenfeng MA Tengcai. Optical emission spectroscopy during diamond-like carbon fllms deposition process by ICPECVD[J]. Nuclear techniques, 2006, (2): 153-156. DOI：

摘要

利用发射光谱（Optical emission spectroscopy

OES）对感应耦合等离子体增强化学气相沉积（Inductively coupled plasma enhance chemical vapor deposition

ICPECVD）类金刚石（Diamond like carbon

DLC）膜过程中的各种基团进行分析

并对不同条件下薄膜沉积速率以及薄膜显微硬度进行测试。分析结果发现

感应耦合等离子体源激发甲烷等离子体中存在比较突出的碳氢离子成分

从而促进形成高硬度的DLC膜。而且射频功率、沉积气压等沉积参数的变化对DLC薄膜沉积过程的中性基团、离子基团以及原子氢等成分都有着明显影响

从而最终影响薄膜沉积过程及薄膜性质。

Abstract

Diamond-like carbon (DLC) films were prepared by inductively coupled plasma enhance chemical vapor deposition (ICPECVD). Optical emission spectroscopy (OES) was applied to the analysis of different radicals in the process. The deposition rate and microhardness of DLC films were tested. The result shows that more ionic hydrocarbon radicals exist in methane plasma which is excitated by inductively coupled plasma source

so the hard DLC films are formed. Both RF power and pressure have distinct influence on radical’s species and proportion in the DLC films deposition process

and the film’s quality is affected finally.

关键词

Keywords

references

浏览量

下载量

CSCD

文章被引用时，请邮件提醒。

提交

工具集

关联资源

暂无数据