10cm×30cm矩形射频离子束源的研制

苏志伟; 陈庆川; 韩大凯

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10cm×30cm矩形射频离子束源的研制

更新时间：2021-03-12

- 10cm×30cm矩形射频离子束源的研制
- Design of 10cm×30cm rectangular radio frequency ion beam source
- 核技术 2006年第10期
- 作者机构：
  
  1. 核工业西南物理研究院
  2. 核工业西南物理研究院,成都,610041
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国家自然科学基金（10376010）资助()
- DOI：
  中图分类号： O539
- 纸质出版日期：2006-10-01
- 稿件说明：
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[1]苏志伟,陈庆川,韩大凯.10cm×30cm矩形射频离子束源的研制[J].核技术,2006(10):734-737.

SU Zhiwei CHEN Qingchuan HAN Dakai. Design of 10cm×30cm rectangular radio frequency ion beam source[J]. Nuclear techniques, 2006, (10): 734-737.
[1]苏志伟,陈庆川,韩大凯.10cm×30cm矩形射频离子束源的研制[J].核技术,2006(10):734-737. DOI：

SU Zhiwei CHEN Qingchuan HAN Dakai. Design of 10cm×30cm rectangular radio frequency ion beam source[J]. Nuclear techniques, 2006, (10): 734-737. DOI：

摘要

本文介绍了射频（Radiofrequency

RF）感应耦合等离子体（Inductivecoupleplasma

ICP）离子束源的设计研究。该射频离子束源可工作于Ar

在使用四栅引出系统时

可获得100—1000eV的离子束。当射频功率为900W

在Ar为工作气体时

束流可达到600mA。在束流为120mA时

距源26cm处

在主轴方向27cm的范围内不均匀性小于±6%。该离子束源可作为大面积离子束刻蚀、离子束抛光等的离子束源。

Abstract

A radio frequency ion beam source with a 10cm×30cm rectangular cross-section beam is developed and tested. This source is designed to provide large cover area for ion beam etching and polishing. With a four grid extraction system

this source can operate in argon at beam energies from 100 eV to 1000 eV. When the RF power is about 900 W

beam currents can reach to 600 mA in argon. The beam current uniformity is better than ±6% along the major axis over 27 cm length at a distance 26 cm from the ion beam source.

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