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聚合物离子径迹化学蚀刻过程的数值分析
更新时间：2021-03-12
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    • 聚合物离子径迹化学蚀刻过程的数值分析

    • Numerical analysis of track etching process in polymers

    • 核技术   2006年第5期
    • 中图分类号： O631.3

    • 纸质出版日期：2006-05-01

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  • [1]刘崎,朱智勇,姚思德,宋玉峰.聚合物离子径迹化学蚀刻过程的数值分析[J].核技术,2006(05):329-334. DOI：

    LIU Qi ZHU Zhiyong YAO Side SONG Yufeng. Numerical analysis of track etching process in polymers[J]. Nuclear techniques, 2006, (5): 329-334. DOI：

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中国科学院大学
上海科技大学 大科学中心
（上海科技大学 硬X射线自由电子激光装置（SHINE） ）
中国科学院上海高等研究院 上海光源科学中心
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