您当前的位置:
首页 >
文章列表页 >
变间距光栅刻线密度的测试精度分析
更新时间:2021-03-12
    • 变间距光栅刻线密度的测试精度分析

    • The groove density measurement of VLS plane grating by diffraction method

    • 核技术   2001年第7期
    • 中图分类号: TH74
    • 纸质出版日期:2001-07-01

    移动端阅览

  • [1]陈锵,王秋平,余小江,周洪军,王琪民.变间距光栅刻线密度的测试精度分析[J].核技术,2001(07):557-563. DOI:

    CHEN Qiang WANG Qiuping YU Xiaojiang ZHOU Hongjun. The groove density measurement of VLS plane grating by diffraction method[J]. Nuclear techniques, 2001, (7): 557-563. DOI:

  •  
  •  

0

浏览量

23

下载量

12

CSCD

文章被引用时,请邮件提醒。
提交
工具集
下载
参考文献导出
分享
收藏
添加至我的专辑

相关文章

上海光源时间分辨超小角散射线多层膜单色器的设计
基于有限元的同步辐射单色器一晶安装力学分析
用于同步辐射单色器多层膜的研究
4B9A束线单色器的改进及在线调试
软X射线波段多层膜-多层膜光栅单色器

相关作者

祝万钱
徐中民
秦宏亮
孙小沛
宋丽
秦宏亮
徐中民
金利民

相关机构

中国科学院上海应用物理研究所
中国科学院上海高等研究院
中国科学院上海应用物理研究所 张江园区
同济大学精密光学工程技术研究所
中国科学院高能物理研究所同步辐射实验室
0