高气压屏栅电离室的调试和<sup>58</sup>Ni（n,p）反应双微分截面的试测

您当前的位置：

首页 >

文章列表页 >

高气压屏栅电离室的调试和⁵⁸Ni（n,p）反应双微分截面的试测

更新时间：2021-03-12

- 高气压屏栅电离室的调试和⁵⁸Ni（n,p）反应双微分截面的试测
- Adjustment of high-pressure twin gridded ionization chamberand preliminary measurement of 58Ni(n,p) reaction
- 核技术 1999年第1期
- 作者机构：
  
  1. 清华大学!北京１０００８４
  2. 北京大学重离子研究所!北京１００８７１
  3. 俄罗斯联合原子核研究所!Ｄｕｂｎａ
  4. １４１９８０
  5. Ｒｕｓｓｉａ
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国家自然科学基金()
- DOI：
  中图分类号： TL811
- 纸质出版日期：1999-01-01
- 稿件说明：
移动端阅览
[1]张雪梅,陈泽民,梁伟,唐国有,张国辉,ＧｌｅｄｅｎｏｖＹｄ,ＫｈｕｕｋｈｅｎｋｈｕｕＧ,ＳｅｄｙｓｈｅｖａＭＶ.高气压屏栅电离室的调试和~(58)Ni(n,p)反应双微分截面的试测[J].核技术,1999(01):11-16.

Adjustment of high-pressure twin gridded ionization chamberand preliminary measurement of 58Ni(n,p) reaction[J]. Nuclear techniques, 1999, (1): 11-16.
[1]张雪梅,陈泽民,梁伟,唐国有,张国辉,ＧｌｅｄｅｎｏｖＹｄ,ＫｈｕｕｋｈｅｎｋｈｕｕＧ,ＳｅｄｙｓｈｅｖａＭＶ.高气压屏栅电离室的调试和~(58)Ni(n,p)反应双微分截面的试测[J].核技术,1999(01):11-16. DOI：

Adjustment of high-pressure twin gridded ionization chamberand preliminary measurement of 58Ni(n,p) reaction[J]. Nuclear techniques, 1999, (1): 11-16. DOI：

介绍了高气压屏栅电离室的结构和调试，并对５８Ｎｉ（ｎ，ｐ）试测结果进行了分析，结果证明此电离室和测量方法对（ｎ，ｐ）反应的测量是适用的。目前正用此电离室进行测量（ｎ，ｐ）反应截面的实验．

A high-pressure twin gridded ionization chamber is introduced. After someadjustments

the chamber was used to measure the 58Ni(n

p) reaction. The resultsshow that the current system and method are suitable for the research of (n

p)reactions.

浏览量

下载量

CSCD

文章被引用时，请邮件提醒。

提交

工具集

关联资源

暂无数据

高气压屏栅电离室的调试和58Ni（n,p）反应双微分截面的试测