溅射原子角分布的同位素效应

王震遐; 朱福英; 陈文彪; 张衡山; 张阿虎

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溅射原子角分布的同位素效应

更新时间：2022-09-13

- 溅射原子角分布的同位素效应
- Isotope effects on angular distribution of sputtering atoms
- 核技术 1986年09卷第2期
- 作者机构：
  
  1.中国科学院上海原子核研究所
  2.上海半导体器件研究所
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 收稿日期：1984-09-20，
  
  纸质出版日期：1986-02
- 稿件说明：
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王震遐, 朱福英, 陈文彪, 等. 溅射原子角分布的同位素效应[J]. 核技术, 1986,09(2):11-12,49,58,59.

Zhenxia Wang, Fuying Zhu, Wenbiao Chen, et al. Isotope effects on angular distribution of sputtering atoms[J]. Nuclear techniques, 1986, 09(2): 11-12,49,58,59.
王震遐, 朱福英, 陈文彪, 等. 溅射原子角分布的同位素效应[J]. 核技术, 1986,09(2):11-12,49,58,59. DOI：

Zhenxia Wang, Fuying Zhu, Wenbiao Chen, et al. Isotope effects on angular distribution of sputtering atoms[J]. Nuclear techniques, 1986, 09(2): 11-12,49,58,59. DOI：

摘要

本文报道了用50keV Ar

＋

离子在垂直入射情况下对Сu元素进行溅射的实验。研究了作为发射角函数的同位素富集行为。结果表明，较轻的同位素无富集，而较重的同位素在从~5°到80°发射角范围内都是富集的。

Abstract

The isotopes enrichment behavior of copper element as a function of sputtered atoms ejection angle has been studied at 50keV Ar

sputtering ion energy under normal incidence. The present results indicate that the lighter isotope is unenrichment

but the heavier isotope becomes enriched over the ejection angle range from ~5° to~80

关键词

Keywords

references

G. K. Wehner , J. Vac. Sci. Technol. , 41 , 487 ( 1983 ).

R. R. Olson et al . , J. Appl. phys. , 50 , 3677 ( 1979 ).

K. Rödelsperger et al . , Z. Physik , 272 , 127 ( 1975 ).

G. K. Wehner , Appl. phys. Lett. , 30 , 185 ( 1977 ).

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