溅射负离子源的最新发展

唐洪庆

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溅射负离子源的最新发展

知识介绍 | 更新时间：2022-09-13

- 溅射负离子源的最新发展
- 暂无标题
- 核技术 1984年07卷第1期
- 作者机构：
  
  中国科学院原子能研究所
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  中图分类号：
- 纸质出版日期：1984-02
- 稿件说明：
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唐洪庆. 溅射负离子源的最新发展[J]. 核技术, 1984,07(1):67-70.
唐洪庆. 溅射负离子源的最新发展[J]. 核技术, 1984,07(1):67-70. DOI：

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摘要

负离子源是应串列加速器的需要而产生的。目前在串列加速器上基本上使用三种形式的负离子源——双等源、电荷交换源和溅射源。双等源在产生束流品质较好的气体负离子方面有特殊的优点。它能产生多种气体负离子，如氢、氘、碳、氮、氧、氟等，而且束流较大，发射度较小。如通用离子源公司的358型双等源

[1]

，能给出最大的氢负离子流约150

A，发射度约3～6mm.mrad•MeV

1/2

。电荷交换源也不可缺少，目前它是产生氦负离子的唯一离子源。通用离子源公司生产的710锂电荷交换源能保证4

A的氦负离子，2µA的锂负离子。溅射源的优点更多。它能产生种类繁多的负离子；能产生很强的束流；效率高，即得到同样大小束流所消耗的离子源物质少，这对产生稀有同位素和放射性同位素离子特别有利

[2]

；使用寿命长；改变离子种类方便；

Abstract

关键词

Keywords

references

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