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材料上加置负偏压对DC溅射生成的TiN薄膜的组分、结构和电性能的影响
快讯 | 更新时间：2022-09-13
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    • 材料上加置负偏压对DC溅射生成的TiN薄膜的组分、结构和电性能的影响

    • 暂无标题

    • 核技术   1983年06卷第3期

    • 纸质出版日期：1983-06

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  • 沈关涛. 材料上加置负偏压对DC溅射生成的TiN薄膜的组分、结构和电性能的影响[J]. 核技术, 1983,06(3):27. DOI：

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