为了制得比较厚的、均匀的铁靶，我们利用了电阻加热法和蒸发角度小、蒸发较为集中的V形坩埚（0.2×7×74mm厚的钨片制成）。接收底板装在转动的托盘上。在底板上开有31个小孔，放有31只铜碗，每只碗内放一块铝衬底，并压上一块“多孔槽压块”，防止铝衬底因转动而飞出。同时，对450-B高真空镀膜设备的电极进行了改装，使得收集衬底和蒸发坩埚之间的距离为75mm。铁的蒸发比较容易，控制蒸发电流和时间，大体上能够控制薄膜的厚度。铁的装量低于钨坩埚重量的35%时，得到的铁靶比较理想。为了使铁膜牢固地附着在铝衬底上，铝衬底的清洗非常重要。