您当前的位置:
首页 >
文章列表页 >
无位错Si单晶中自无序缺陷的正电子寿命研究
更新时间:2022-09-13
    • 无位错Si单晶中自无序缺陷的正电子寿命研究

    • 暂无标题

    • 核技术   1985年08卷第8期
    • 纸质出版日期:1985-11

    移动端阅览

  • 邱万川, 王少阶, 罗守礼, 等. 无位错Si单晶中自无序缺陷的正电子寿命研究[J]. 核技术, 1985,08(8):37-38. DOI:

  •  
  •  

0

浏览量

26

下载量

0

CSCD

文章被引用时,请邮件提醒。
提交
工具集
下载
参考文献导出
分享
收藏
添加至我的专辑

相关文章

用正电子技术研究氢在Al、Cu中的行为
正电子湮没技术作为材料无损检测的应用研究
粉末Ba0.95M0.05FBr:Eu2+(M=Sr,Ca)的光激励发光研究
5.0MeV和9.5MeV快中子辐照在GaAs中产生的辐射损伤的正电子湮没研究
氧化物光学碱度与正电子寿命关系的研究

相关作者

曹必松
章勇
郁伟中
熊家炯
陈志强
曾 辉
吴奕初
王荣山

相关机构

清华大学
华侨大学
中国科学院上海应用物理研究所 嘉定园区
苏州热工研究院有限公司
武汉大学 物理科学与技术学院 湖北省核固体物理重点实验室
0