章勇, 郁伟中, 曹必松, 等. 用正电子技术研究氢在Al、Cu中的行为[J]. 核技术, 1985,08(8):10-11.

章勇, 郁伟中, 曹必松, 等. 用正电子技术研究氢在Al、Cu中的行为[J]. 核技术, 1985,08(8):10-11. DOI：

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