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用靶添加剂提高负溅射离子源流强的研究
研究简报 | 更新时间:2022-08-16
    • 用靶添加剂提高负溅射离子源流强的研究

    • Investigations of target additives for enhancing ion beam intensities from sputter negative ion sources

    • 核技术   1990年13卷第2期
    • 收稿日期:1988-10-17,

      纸质出版日期:1990-02-01

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  • 杜光天. 用靶添加剂提高负溅射离子源流强的研究[J]. 核技术, 1990,13(2):101-105. DOI:

    Guantian Du. Investigations of target additives for enhancing ion beam intensities from sputter negative ion sources[J]. Nuclear techniques, 1990, 13(2): 101-105. DOI:

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