用于离子注入机的Freeman型离子源的研制

姜苏蔚; 李钧; 杜建敏; 桑和康; 刘来凤; 蒋新元

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用于离子注入机的Freeman型离子源的研制

更新时间：2022-08-16

- 用于离子注入机的Freeman型离子源的研制
- A Freeman type ion source designed for ion implanter
- 核技术 1989年12卷第1期
- 作者机构：
  
  中国科学院上海冶金研究所
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 收稿日期：1987-07-15，
  
  纸质出版日期：1989-01
- 稿件说明：
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姜苏蔚, 李钧, 杜建敏, 等. 用于离子注入机的Freeman型离子源的研制[J]. 核技术, 1989,12(1):37-43.

Suwei Jiang, Jun Li, Jianmin Du, et al. A Freeman type ion source designed for ion implanter[J]. Nuclear techniques, 1989, 12(1): 37-43.
姜苏蔚, 李钧, 杜建敏, 等. 用于离子注入机的Freeman型离子源的研制[J]. 核技术, 1989,12(1):37-43. DOI：

Suwei Jiang, Jun Li, Jianmin Du, et al. A Freeman type ion source designed for ion implanter[J]. Nuclear techniques, 1989, 12(1): 37-43. DOI：

摘要

本文介绍了一台适用于离子注入机的Freeman型离子源，该源结构简单、操作方便、功耗低、造价便宜。通过对离子源放电室结构、引出系统的改进，可获得接近旁轴条件、品质优良的离子束，束流在0.5—1mA之间。用常规的双缝法对束流发射度进行测量，能量归一化发射度在2—4×10

-5

mm·rad·MeV

之间，归一化亮度≥7.6×10

A/m

·rad

，有一定的应用价值。

Abstract

A Freeman type ion source designed for ion implanter is described. The ion source is simple

low consumption and cheap in price. After improving the structure of discharge chamber and extracting system

high quality para-axial ion beam of 0.5—1mA can be obtained. Conventional two slits method is used for measurements of beam emittance. The energy normalized emittance is 2—4×10

-5

mm·rad·MeV

1/2

and normalized brightness≥7.6×10

A/m

·rad·This ion source is suitable for practical uses.

关键词

Keywords

references

J. H. Freeman , A new ion souree for electromagnetic isotope seporators, AERE-R4083 , 1962 .

J. H. Freeman , A high intensity isotope separator ion source, AERE-R6138 , 1969 .

Niwilliama , J. Vac. Sci. Tech. , 15 （ 1978 ）, 3 : 1016 .

兰州近代物理研究所，弗瑞曼型重离子源（资料）， 1975 年。

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