离子束辅助沉积（IVD）方法制备Ag/Si薄膜

潘显政; 何新明; 王滨; 章利球

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离子束辅助沉积（IVD）方法制备Ag/Si薄膜

更新时间：2022-08-16

- 离子束辅助沉积（IVD）方法制备Ag/Si薄膜
- The Ag/Si thin film prepared by using ion assisted deposition
- 核技术 1987年10卷第1期
- 作者机构：
  
  武汉大学
- 作者简介：
- 基金信息：
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  中图分类号：
- 纸质出版日期：1987-01
- 稿件说明：
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潘显政, 何新明, 王滨, 等. 离子束辅助沉积（IVD）方法制备Ag/Si薄膜[J]. 核技术, 1987,10(1):47-50,64.

Xianzheng Pan, Xinming He, Bin Wang, et al. The Ag/Si thin film prepared by using ion assisted deposition[J]. Nuclear techniques, 1987, 10(1): 47-50,64.
潘显政, 何新明, 王滨, 等. 离子束辅助沉积（IVD）方法制备Ag/Si薄膜[J]. 核技术, 1987,10(1):47-50,64. DOI：

Xianzheng Pan, Xinming He, Bin Wang, et al. The Ag/Si thin film prepared by using ion assisted deposition[J]. Nuclear techniques, 1987, 10(1): 47-50,64. DOI：

摘要

离子束辅助沉积（以下简称IVD）方法是将离子束技术与真空沉积薄膜技术相结合的一种新的制膜方法。它具有沉积速率高、薄膜吸附强度大、薄膜外延温度低并能消除膜应力等优点。因此，近年来在国际上受到重视和发展。

Abstract

The method of ion assisted vapour deposition (IAD or IVD) for preparing thin films is described in this paper. The comparison of the Ag/Si thin film prepared by IVD with those prepared by conventional vacuum vapour deposition have been made. The interface ion mixing of Ag-Si

and the surface microstructure of the Ag/Si thin films are measured by RBS

TЕМ SEM etc.

关键词

Keywords

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