金属钽片在阳极氧化处理过程中，在不同的电解液、电解电压及通电时间下，会形成不同厚度的Ta

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层，即可制成各种不同耐压规格的钽电容器。钽基片上的Ta

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层厚度与阳极氧化工艺之间的数量关系过去不太清楚，用离子束背散射方法便可很好地解决这一问题，并且具有简便、可靠、无需标准样品、不破坏样品等优点。钽片的阳极氧化处理一般有两种方法。一种是先预赋能，然后再赋能；另一种是不预赋能而仅赋能。我们分别对赋能电压为30、60. 90、200V的钽片（不预赋能），以及对经50V预赋能后再经90、200、350V赋能和不再赋能的各种样品进行了背散射测试。