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用背散射方法分析硅中注入砷的深度分布
更新时间：2022-08-16
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    • 用背散射方法分析硅中注入砷的深度分布

    • 暂无标题

    • 核技术   1982年05卷第4期

    • 纸质出版日期：1982-08

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  • 郑胜男, 赵玉华, 许国基, 等. 用背散射方法分析硅中注入砷的深度分布[J]. 核技术, 1982,05(4):117-118. DOI：

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