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中国科学院原子能研究所
纸质出版日期:1982-02
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谢云瑞, 朱天成. 固体径迹探测器反冲核径迹电化学蚀刻装置[J]. 核技术, 1982,05(1):82-83.
Yunrui Xie, Tiancheng Zhu. A device for electrochemical etching of recoil particle tracks in SSTD[J]. Nuclear techniques, 1982, 05(1): 82-83.
谢云瑞, 朱天成. 固体径迹探测器反冲核径迹电化学蚀刻装置[J]. 核技术, 1982,05(1):82-83. DOI:
Yunrui Xie, Tiancheng Zhu. A device for electrochemical etching of recoil particle tracks in SSTD[J]. Nuclear techniques, 1982, 05(1): 82-83. DOI:
用电化学蚀刻技术来显示快中子在聚合物内反冲核径迹获得了满意的效果。在参照文献
[1
2]
的基础上,我们研制了一台电化学蚀刻装置。用它对180µm的聚碳酸酯膜进行了电化学蚀刻,研究了该装置在蚀刻过程中的电特性。
M. Sohrabi , Health Phy. , 27 , 598 ( 1974 ).
J. H. Thorngate et al , Nucl. Instr. Meth . , 138 , 561 ( 1976 ).
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