<sup>З</sup>H-标记源表面污染的擦拭测量

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^ЗH-标记源表面污染的擦拭测量

更新时间：2022-06-23

- ^ЗH-标记源表面污染的擦拭测量
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- Nuclear Techniques 1979年02卷第4期
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- 收稿日期：1978-11-22，
  
  纸质出版日期：1979-12
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家龙朱, 仕意陈. ^ЗH-标记源表面污染的擦拭测量[J]. Nuclear Techniques, 1979,02(4):61-66.

家龙朱, 仕意陈. ^ЗH-标记源表面污染的擦拭测量[J]. 核技术, 1979, 02(4): 61-66.
家龙朱, 仕意陈. ^ЗH-标记源表面污染的擦拭测量[J]. Nuclear Techniques, 1979,02(4):61-66. DOI：

家龙朱, 仕意陈. ^ЗH-标记源表面污染的擦拭测量[J]. 核技术, 1979, 02(4): 61-66. DOI：

H-标记的化合物在医、农、工和科研等领域已广泛应用，但在制备、提纯、应用及溅量的过程中常会发生污染现象。由于

H是软

蜕变的同位素，其

粒子在密度为1的物质中的射程不大于6

，这种特性给制造表面污染监测仪带来不少困难，因此在

H污染监测方面不得不采用间接测量法。采用擦拭后液体闪烁测量的方法，可以定性或定量地检验

H的表面污染状况。本文对

H标记实验室可能发生的表面污染的去污擦拭测定情况进行了探讨，对于塑料、玻璃、钢板以及皮肤的去污擦拭测量做了一系列实验。

小泉彰等， Radioisotopes , 24 , 6 , 431 ( 1975 ).

国际放射防护委员会第10号出版物（1968） , 原子能出版社， 1975 年.

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