

浏览全部资源
扫码关注微信
中国科学院上海原子核研究所
Received:27 June 1984,
Published:1985-12
移动端阅览
Anquan Le, Fasheng Han, Junquan Xu, et al. A thickness gauge used for measuring the gold plating layer[J]. Nuclear techniques, 1985, 08(9): 1-4,51.
本文简要介绍了仪器的测量原理和结构。仪器的测量厚度范围不大于10
µ
m, 测量精密度小于±0.5
μ
m。
The measurement principle and the construction of the thickness gauge used for measuring the gold plating layer was described. The measured range for the gold layer thickness is less than 10
µ
m and the precision of measurement is better than ±0.5
µ
m.
間金原粲 著, 杨希光泽 , 薄膜的基本技术 , 北京 , 科学出版社 , 1982 年。
ASTM Designation, B567-79a .
American National Standard ASTM A754-79 .
张家骅 等 , 放射性同位素X射线荧光分析 , 北京 , 原子能出版社 , 1981 年,第 285 页.
徐君权 等 , 用于X射线荧光分析的密封式正比计数管(核探测器和核电子学1979年会议资料汇编) , 北京 , 原子能出版社 , 1982 年,第 111 页.
0
Views
25
下载量
0
CSCD
Publicity Resources
Related Articles
Related Author
Related Institution
京公网安备11010802024621