薄膜的真空沉积方法，一般分为加热蒸发和溅射二种。而后者是制备高熔和难熔金属膜的一种较好的方法。它不依赖于材料的蒸汽压，不受污染，且材料消耗也很少。本文主要介绍铌（Nb）、铱（Ir）、钒（V）三种金属自支撑膜的制备。