低能氢离子与各种元素和组合物质的相互作用能发生物理和化学腐蚀现象。美国Sandia国家实验室的D.J. Sharp和J. K. G. Pauitz利用50~1800eV的低能氢离子轰击Si、B、C、TiB

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、WC-Co金属陶瓷、不锈钢等一些物质，然后用俄歇电子谱作深度剖面分析测定，结果表明，碳和硼能从这些物质的近表面范围内被选择性地去除。这是因为氢离子与原子氢在与各种物质相互作用时，呈现了高度的化学活性，而发生反应的结果造成了挥发性化合物的产生，从而导致了碳和硼被选择性地去除。