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中国科学院高能物理研究所
Published:1985
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Shicheng Wang, Huanhua Cui. The etching behavior of a CN SSNTD[J]. Nuclear techniques, 1985, 08(4): 6-7.
DOI:
Shicheng Wang, Huanhua Cui. The etching behavior of a CN SSNTD[J]. Nuclear techniques, 1985, 08(4): 6-7. DOI:
用径迹直径法测定富士膜的灵敏度,测定5.15MeV
α
粒子径迹蚀刻曲线起始部分的斜率d
5
和1MeV
粒子径迹蚀刻曲线的斜率d
1
,按下式计算
V
t
/
Vg
:
g
=[1+(d
/d
)
2
]/[1-??(d
)
]。用目镜测微计测量
粒子径迹直径,用最小二乘法计算蚀刻曲线斜率。实验结果如下。
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