通常，核径迹滤膜的蚀刻方法有化学法和电化学法，至今尚未看到电子束蚀刻法的报导。我们以高压透射电镜（Hitachi H-700）观察由裂变碎片制得的PET（聚酯）核滤膜（见图1）时发现，0.2MeV的电子束辐照具有明显的蚀刻作用。图2表明，随着时间的增加，不同束流时的孔数和孔尺寸皆明显增长。显然，即使采用20µA束流，孔尺寸也显得不很均匀。以后，我们将束流降为11~13µA，孔尺寸的均匀性就大为改善。由图2C可见，总的变化趋势相同，但是至3~4分时，孔尺寸不再增大，其中一部分孔的增长初速可达1.04µm/min。看来，适当调节电子束的功率参数和照射时间，实用的可能性并不是不存在的。