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将一组不同注入能量(80keV~180keV)和剂量(10
14
~10
16
atom/cm
2
)的As P型硅样品与相应的标准送入原子能所反应堆中,在相同条件下照射10小时,中子通量为10
13
n/cm
2
• s。照射后的样品冷却2~3天后用Ge(Li)γ谱仪分别测出样品和标准的活性,经衰变时间和硅片面积修正后,用相对比较法可得到一组硅片中含As的剂量值,典型结果列于表中,测量误差小于10%。此结果与用背散射法所测As剂量结果在误差范围内完全一致。
R. B. Fair and Joseph C. C. Tsai , J. Electrochem ., 123 , 4 , 583 ( 1976 ).
M. Y. Tsai et al ., J. Appl. Phys ., 51 , 6 , 3230 ( 1980 ).
Katsuhiro Tsukamoto et al ., Japanese J. Appl. Phys ., 19 , 1 , 87 ( 1980 ).
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